DICP OpenIR
Unique reactivity of confined metal atoms on a silicon substrate
Yao, Yun-Xi1; Liu, Xin1,2; Fu, Qiang1; Li, Wei-Xue1,2; Tan, Da-Li1; Bao, Xin-He1; Fu Q(傅强); Li WX(李微雪); Bao XH(包信和); Fu Q(傅强); Li WX(李微雪); Bao XH(包信和)
关键词Chemisorption Confinement Effects Density Functional Calculations Photoemission Electron Microscopy Size Effects
刊名CHEMPHYSCHEM
2008-05-02
ISSN1439-4235
DOI10.1002/cphc.200700840
9期:7页:975-979
收录类别SCI
文章类型Article
部门归属5
项目归属502,507
产权排名1;1
WOS标题词Science & Technology ; Physical Sciences
类目[WOS]Chemistry, Physical ; Physics, Atomic, Molecular & Chemical
研究领域[WOS]Chemistry ; Physics
关键词[WOS]X-RAY-DIFFRACTION ; BOND FORMATION ; SURFACE ; ADSORPTION ; CATALYSIS ; AG(111)
语种英语
原文出处查看原文
WOS记录号WOS:000255845500003
引用统计
被引频次:23[WOS]   [WOS记录]     [WOS相关记录]
文献类型期刊论文
条目标识符http://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/100273
专题中国科学院大连化学物理研究所
通讯作者Fu Q(傅强); Li WX(李微雪); Bao XH(包信和); Fu Q(傅强); Li WX(李微雪); Bao XH(包信和)
作者单位1.Chinese Acad Sci, Dalian Inst Chem Phys, State Key Lab Catalysis, Dalian 116023, Peoples R China
2.Chinese Acad Sci, Dalian Inst Chem Phys, Ctr Theoret & Computat Chem, Dalian 116023, Peoples R China
推荐引用方式
GB/T 7714
Yao, Yun-Xi,Liu, Xin,Fu, Qiang,et al. Unique reactivity of confined metal atoms on a silicon substrate[J]. CHEMPHYSCHEM,2008,9(7):975-979.
APA Yao, Yun-Xi.,Liu, Xin.,Fu, Qiang.,Li, Wei-Xue.,Tan, Da-Li.,...&包信和.(2008).Unique reactivity of confined metal atoms on a silicon substrate.CHEMPHYSCHEM,9(7),975-979.
MLA Yao, Yun-Xi,et al."Unique reactivity of confined metal atoms on a silicon substrate".CHEMPHYSCHEM 9.7(2008):975-979.
条目包含的文件
条目无相关文件。
个性服务
推荐该条目
保存到收藏夹
查看访问统计
导出为Endnote文件
谷歌学术
谷歌学术中相似的文章
[Yao, Yun-Xi]的文章
[Liu, Xin]的文章
[Fu, Qiang]的文章
百度学术
百度学术中相似的文章
[Yao, Yun-Xi]的文章
[Liu, Xin]的文章
[Fu, Qiang]的文章
必应学术
必应学术中相似的文章
[Yao, Yun-Xi]的文章
[Liu, Xin]的文章
[Fu, Qiang]的文章
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。