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题名: Modulation of surface reactivity via electron confinement in metal quantum well films: O2 adsorption on Pb/Si(111)
作者: Zhang Z(张镇) ;  Yanfeng Zhang ;  Fu Q(傅强) ;  Zhang H(张辉) ;  Yao YX(姚运喜) ;  Ma T(马腾) ;  Tan DL(谭大力) ;  Qikun Xue ;  Bao XH(包信和)
通讯作者: 包信和
刊名: Journal of Chemical Physics
发表日期: 2008
卷: 129, 页:14704-14710
部门归属: 5
项目归属: 502
产权排名: 1;1
语种: 
原文出处: 查看原文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/100635
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Zhang Z,Yanfeng Zhang,Fu Q,et al. Modulation of surface reactivity via electron confinement in metal quantum well films: O2 adsorption on Pb/Si(111)[J]. Journal of Chemical Physics,2008,129:14704-14710.
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