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溶剂对DMFC阴极催化层微观结构的影响
叶瑷玮; 孙公权; 王素力
刊名电源技术
2009
94-97
部门归属3
项目归属305
产权排名1;1
语种
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文献类型期刊论文
条目标识符http://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/102427
专题中国科学院大连化学物理研究所
通讯作者孙公权
推荐引用方式
GB/T 7714
叶瑷玮,孙公权,王素力. 溶剂对DMFC阴极催化层微观结构的影响[J]. 电源技术,2009:94-97.
APA 叶瑷玮,孙公权,&王素力.(2009).溶剂对DMFC阴极催化层微观结构的影响.电源技术,94-97.
MLA 叶瑷玮,et al."溶剂对DMFC阴极催化层微观结构的影响".电源技术 (2009):94-97.
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