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学科主题: 化学工程
题名: H2选择性还原NO的产物分布和反应机理研究
作者: 杨剑斌
答辩日期: 2005-06-08
导师: 吴迪镛
专业: 化学工程
授予单位: 中国科学院研究生院
学位: 博士
关键词: 氧化氮 ;  选择性催化还原 ;  微观反应动力学 ;  随机模拟
其他题名: Studies on the Distribution of Resultants and the Mechanism of NO Reduction by H2
摘要: 本文通过H2在贵金属催化剂上低温选择性还原NO的反应过程及热力学分析,开展了H2选择性还原NO的产物分布和机理的研究。研究表明,在富氧条件下,还原产物中除N2外还有N2O和NH3的存在。 本文在自制的0.1%Pd/Al2O3催化剂上,富氧条件下,考察了反应条件对H2选择性还原NO反应的影响。结果表明,随着反应温度的升高,NO的转化率先增加到最大值后逐步下降,还原产物中N2和NH3的选择性也有同样的变化规律,N2O的选择性随反应温度的增加先降低,再增加。原料气中NO和O2含量的提高都对H2选择性还原NO的反应有抑制作用,H2含量的提高有利于提高反应活性,H2O的存在将抑制催化剂的低温活性,对产物的选择性没有影响,而且H2O的影响是可逆的。这些结果表明,NO转化率和产物分布与反应气体中NO、H2和O2的相对组成直接相关,也就是说,NO、H2和O2的竞争吸附直接决定了催化剂在反应中的动力学行为。
语种: 中文
内容类型: 学位论文
URI标识: http://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/106494
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杨剑斌. H2选择性还原NO的产物分布和反应机理研究[D]. 中国科学院研究生院. 2005.
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