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Subject Area物理化学
一种制备金属钯合金膜的化学共沉积方法; 一种制备金属钯合金膜的化学共沉积方法; 一种制备金属钯合金膜的化学共沉积方法; 一种制备金属钯合金膜的化学共沉积方法
徐恒泳; 曾高峰; 史蕾; 安德里斯歌德巴赫
Application NumberCN200910169510.0
Patent NumberCN200910169510.0
Application Date2009-09-08
2011-04-13
Patent Agent周长兴
Rights Holder中国科学院大连化学物理研究所
Subtype发明
Keyword物理化学
Certificate Number带填写
PCT Attributes
Country中国
Department大连化物所
Contribution Rank1
一种制备金属钯合金膜的化学共沉积方法; 一种制备金属钯合金膜的化学共沉积方法; 一种制备金属钯合金膜的化学共沉积方法; 一种制备金属钯合金膜的化学共沉积方法
Date Available2011-04-13 ; 2011-07-11
description.patentprioritydata待填写
description.pctapplicationdata待填写
description.pctpublicationdata待填写
Status实审
Funding Organization大连化物所
Abstract一种制备钯合金膜的化学共沉积方法,是在化学镀金属钯的过程中将掺杂金属的络合物溶液添加到金属钯的镀液中,而不是在化学镀之前混合。本发明通过控制共沉积镀液中易于被优先还原的金属离子的浓度,从而实现钯和掺入金属同时且均匀地沉积的制备钯合金膜。利用本方法能够一次制备出致密且具有精确目标组成的钯合金膜,有效降低合金膜制备的劳动强度,显著地提高了钯银合金膜制备的成功率和重复率;该方法所得钯合金膜能够成数量级地减少高温合金化时间,节省电能、高纯氢和实验时间,同时也将显著延长合金膜的实际服役时间。; 带填写
Language中文
Document Type专利
Identifierhttp://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/106947
Collection中国科学院大连化学物理研究所
Recommended Citation
GB/T 7714
徐恒泳,曾高峰,史蕾,等. 一种制备金属钯合金膜的化学共沉积方法, 一种制备金属钯合金膜的化学共沉积方法, 一种制备金属钯合金膜的化学共沉积方法, 一种制备金属钯合金膜的化学共沉积方法. CN200910169510.0[P]. 2011-04-13.
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