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Subject Area物理化学
一种制备高比表面积超薄钯膜的化学镀方法; 一种制备高比表面积超薄钯膜的化学镀方法; 一种制备高比表面积超薄钯膜的化学镀方法; 一种制备高比表面积超薄钯膜的化学镀方法
徐恒泳; 曾高峰; 史蕾; 安德里斯歌德巴赫
Application NumberCN200910169511.5
Patent NumberCN200910169511.5
Application Date2009-09-08
2011-04-13
Patent Agent周长兴
Rights Holder中国科学院大连化学物理研究所
Subtype发明
Keyword物理化学
Certificate Number带填写
PCT Attributes
Country中国
Department大连化物所
Contribution Rank1
一种制备高比表面积超薄钯膜的化学镀方法; 一种制备高比表面积超薄钯膜的化学镀方法; 一种制备高比表面积超薄钯膜的化学镀方法; 一种制备高比表面积超薄钯膜的化学镀方法
Date Available2011-04-13 ; 2011-07-11
description.patentprioritydata待填写
description.pctapplicationdata待填写
description.pctpublicationdata待填写
Status实审
Funding Organization大连化物所
Abstract一种制备钯膜或钯银合金膜的化学镀方法,利用多孔载体将钯盐络合物镀液或钯银氨盐络合物镀液分隔成两部分,其中一侧的镀液中加入还原剂,还原剂经由孔道和缺陷与镀液中的钯盐络合物或钯银氨盐络合物并发生自催化反应,在接触钯盐络合物或钯银氨盐络合物的多孔载体一侧形成钯膜。利用本发明能够不经过任何额外复杂处理就可以获得高比表面积,增强膜的透氢性能和表面活性;通过本方法所制备的钯膜膜层超薄,能够减少资源浪费;同时,本发明工艺简洁,设备简单,节省经济投入。; 带填写
Language中文
Document Type专利
Identifierhttp://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/106949
Collection中国科学院大连化学物理研究所
Recommended Citation
GB/T 7714
徐恒泳,曾高峰,史蕾,等. 一种制备高比表面积超薄钯膜的化学镀方法, 一种制备高比表面积超薄钯膜的化学镀方法, 一种制备高比表面积超薄钯膜的化学镀方法, 一种制备高比表面积超薄钯膜的化学镀方法. CN200910169511.5[P]. 2011-04-13.
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