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学科主题: 物理化学
专利名称: 一种处理高浓度电镀废水的装置及其应用;  一种处理高浓度电镀废水的装置及其应用
发明人: 于永辉 ;  孙承林 ;  杨旭 ;  乔瑞平 ;  臧广安 ;  于波
申请受理号: CN200910010871.0
专利授权号: CN200910010871.0
申请日期: 2009-03-25
授权日期: 2010-09-29
代理机构: 马驰 ;  周秀梅
专利权人: 中国科学院大连化学物理研究所
专利类别: 发明
关键词: 物理化学
专利证书号: 带填写
是否PCT专利: 
授予国别: 中国
部门归属: 大连化物所
产权排名: 1
专利名称: 一种处理高浓度电镀废水的装置及其应用;  一种处理高浓度电镀废水的装置及其应用
公开日期: 2010-09-29 ;  2011-07-11
优先权数据: 待填写
PCT申请数据: 待填写
PCT公布数据: 待填写
状态: 实审
资助者: 大连化物所
摘要: 本发明涉及一种处理高浓度电镀废水的装置及其应用,包括电镀废水调节池、微孔曝气中和反应池、中间水池、混凝斜板沉淀池、污泥浓缩池、多介质过滤罐、清水池、氢氧化钙配药槽、氢氧化钠配药槽、聚丙烯酰胺配药槽、盐酸储槽、厢式压滤机、水泵、加药泵、鼓风机、浓浆泵;采用上述装置,通过微孔曝气中和反应+混凝斜板沉淀+多介质过滤组合工艺处理高浓度电镀废水。本发明处理高浓度电镀酸洗综合废水,去除效果显著,COD去除率达80%以上,石油类达95%以上,总磷、锌、铜、和总铁的去除率达99.5%以上,总铬的去除率达99%以上,镍的去除率达90%以上。本发明适用于高浓度电镀废水、酸洗废水的处理。
英文摘要: 带填写
语种: 中文
内容类型: 专利
URI标识: http://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/107041
Appears in Collections:中国科学院大连化学物理研究所_专利

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于永辉,孙承林,杨旭,等. 一种处理高浓度电镀废水的装置及其应用, 一种处理高浓度电镀废水的装置及其应用. CN200910010871.0. 2010.
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