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Subject Area物理化学
表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法; 表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法; 表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法; 表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法
公发全; 刘万发; 李 刚; 董 闯; 牟宗信
Application NumberCN200710159200.1
Patent NumberCN200710159200.1
Application Date2007-12-26
2009-07-01
Patent Agent马驰 ; 周秀梅
Rights Holder中国科学院大连化学物理研究所
Subtype发明
Keyword物理化学
Certificate Number带填写
PCT Attributes
Country中国
Department大连化物所
Contribution Rank1
表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法; 表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法; 表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法; 表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法
Date Available2009-07-01 ; 2011-07-11
description.patentprioritydata待填写
description.pctapplicationdata待填写
description.pctpublicationdata待填写
Status实审
Funding Organization大连化物所
Abstract本发明涉及一种加工具有微孔的RB-SiC表面加工及处理方法,在 RB-SiC基底采用表面沉积或能流注入方法产生致密化的加工层;然后对致密化的加工层进行常规精抛光加工,再采用纳米抛光方法对加工层进行抛光。本发明将表面改性技术和光学机械加工相结合,其针对RB-SiC存在的微孔缺陷,利用表面改性技术使得待加工RB-SiC基底表面致密化,然后再进行光学二次加工,以实现RB-SiC基底表面的粗糙度小于1nm(rms)水平。因此本发明为以具有微孔材料为基底的超光滑表面加工提供了行之有效的方法。; 带填写
Language中文
Document Type专利
Identifierhttp://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/107611
Collection中国科学院大连化学物理研究所
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GB/T 7714
公发全,刘万发,李 刚,等. 表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法, 表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法, 表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法, 表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法. CN200710159200.1[P]. 2009-07-01.
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