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学科主题物理化学
表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法; 表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法; 表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法; 表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法
公发全; 刘万发; 李 刚; 董 闯; 牟宗信
申请受理号CN200710159200.1
专利授权号CN200710159200.1
申请日期2007-12-26
2009-07-01
代理机构马驰 ; 周秀梅
专利权人中国科学院大连化学物理研究所
专利类别发明
关键词物理化学
专利证书号带填写
是否PCT专利
授予国别中国
部门归属大连化物所
产权排名1
表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法; 表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法; 表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法; 表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法
公开日期2009-07-01 ; 2011-07-11
优先权数据待填写
PCT申请数据待填写
PCT公布数据待填写
状态实审
资助者大连化物所
英文摘要本发明涉及一种加工具有微孔的RB-SiC表面加工及处理方法,在 RB-SiC基底采用表面沉积或能流注入方法产生致密化的加工层;然后对致密化的加工层进行常规精抛光加工,再采用纳米抛光方法对加工层进行抛光。本发明将表面改性技术和光学机械加工相结合,其针对RB-SiC存在的微孔缺陷,利用表面改性技术使得待加工RB-SiC基底表面致密化,然后再进行光学二次加工,以实现RB-SiC基底表面的粗糙度小于1nm(rms)水平。因此本发明为以具有微孔材料为基底的超光滑表面加工提供了行之有效的方法。; 带填写
语种中文
文献类型专利
条目标识符http://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/107611
专题中国科学院大连化学物理研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
公发全,刘万发,李 刚,等. 表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法, 表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法, 表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法, 表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法. CN200710159200.1[P]. 2009-07-01.
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