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DICP OpenIR  > 中国科学院大连化学物理研究所  > 专利
学科主题: 物理化学
专利名称: 表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法;  表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法
发明人: 公发全 ;  刘万发 ;  李 刚 ;  董 闯 ;  牟宗信
申请受理号: CN200710159200.1
专利授权号: CN200710159200.1
申请日期: 2007-12-26
授权日期: 2009-07-01
代理机构: 马驰 ;  周秀梅
专利权人: 中国科学院大连化学物理研究所
专利类别: 发明
关键词: 物理化学
专利证书号: 带填写
是否PCT专利: 
授予国别: 中国
部门归属: 大连化物所
产权排名: 1
专利名称: 表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法;  表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法
公开日期: 2009-07-01 ;  2011-07-11
优先权数据: 待填写
PCT申请数据: 待填写
PCT公布数据: 待填写
状态: 实审
资助者: 大连化物所
摘要: 本发明涉及一种加工具有微孔的RB-SiC表面加工及处理方法,在 RB-SiC基底采用表面沉积或能流注入方法产生致密化的加工层;然后对致密化的加工层进行常规精抛光加工,再采用纳米抛光方法对加工层进行抛光。本发明将表面改性技术和光学机械加工相结合,其针对RB-SiC存在的微孔缺陷,利用表面改性技术使得待加工RB-SiC基底表面致密化,然后再进行光学二次加工,以实现RB-SiC基底表面的粗糙度小于1nm(rms)水平。因此本发明为以具有微孔材料为基底的超光滑表面加工提供了行之有效的方法。
英文摘要: 带填写
语种: 中文
内容类型: 专利
URI标识: http://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/107611
Appears in Collections:中国科学院大连化学物理研究所_专利

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公发全,刘万发,李 刚,等. 表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法, 表面改性技术加工RB-SiC超光滑表面反射镜方法. CN200710159200.1. 2009.
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