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学科主题: 物理化学
专利名称: 一种阴离子交换膜及其制备和应用;  一种阴离子交换膜及其制备和应用
发明人: 张华民 ;  张凤祥 ;  曲超
申请受理号: CN201010524782.0
专利授权号: CN201010524782.0
申请日期: 2010-10-29
授权日期: 2011
代理机构: 马驰
专利权人: 中国科学院大连化学物理研究所
专利类别: 发明
关键词: 物理化学
专利证书号: 待填写
是否PCT专利: 待填写
授予国别: 中文
部门归属: 大连化物所
产权排名: 1
专利名称: 一种阴离子交换膜及其制备和应用;  一种阴离子交换膜及其制备和应用
公开日期: 2012-05-16
状态: 实审
资助者: 中国科学院大连化学物理研究所;辽宁石油化工大学
摘要: 本发明涉及一种阴离子交换膜及其制备方法和应用,提出一种侧链上含有多氮杂环正离子作为导离子基团的阴离子交换膜及其制备方法。该类阴离子膜的制备采用先成盐后制膜的路线,成盐过程为均相反应,反应容易进行;浇铸成膜过程中容易形成微相分离结构,有利于提高膜的电导性能,所得阴离子膜具有较高的电导率和稳定性。
英文摘要: 待填写
语种: 中文
内容类型: 专利
URI标识: http://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/116332
Appears in Collections:中国科学院大连化学物理研究所_专利

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张华民,张凤祥,曲超. 一种阴离子交换膜及其制备和应用, 一种阴离子交换膜及其制备和应用. CN201010524782.0. 2011.
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