中国科学院大连化学物理研究所机构知识库
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DICP OpenIR  > 中国科学院大连化学物理研究所  > 专利
学科主题: 张晨
专利名称: 一种聚醚酰亚胺与气相二氧化硅混合基质膜、制备及应用;  一种聚醚酰亚胺与气相二氧化硅混合基质膜、制备及应用
发明人: 任吉中 ;  张立秋 ;  李晖 ;  赵丹 ;  冯世超
申请受理号: CN
专利授权号: CN201210547993.5
代理机构: 中国科学院大连化学物理研究所
专利权人: 中国科学院大连化学物理研究所
专利类别: 专利
关键词: 物理化学
专利证书号: CN201210547993.5
是否PCT专利: 实审
授予国别: 待填写
部门归属: 带填写
项目归属: 大连化物所
专利名称: 一种聚醚酰亚胺与气相二氧化硅混合基质膜、制备及应用;  一种聚醚酰亚胺与气相二氧化硅混合基质膜、制备及应用
公开日期: 2012-12-17
优先权数据: 中国科学院大连化学物理研究所;辽宁石油化工大学
状态: 发明
资助者: 一种聚醚酰亚胺与气相二氧化硅混合基质膜、制备及应用,本发明选用含有极性醚氧基团的新型HQDEA-DMMDA聚醚酰亚胺为基质膜材料,选择气相二氧化硅粒子为填料,通过超声方法将二氧化硅均匀分散在基质膜溶液中制备气体分离膜,该混合基质膜具有较好的气体渗透性,并对H2/CH4,H2/N2,CO2/CH4,CO2/H2以及O2/N2等分离体系保持较高的分离性能。
摘要: 物理化学
英文摘要: 带填写
语种: 2013-5-8
内容类型: 专利
URI标识: http://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/118793
Appears in Collections:中国科学院大连化学物理研究所_专利

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任吉中,张立秋,李晖,等. 一种聚醚酰亚胺与气相二氧化硅混合基质膜、制备及应用, 一种聚醚酰亚胺与气相二氧化硅混合基质膜、制备及应用. CN201210547993.5.
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