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学科主题: 马驰
专利名称: 一种复合阴离子交换膜及其制备和应用;  一种复合阴离子交换膜及其制备和应用
发明人: 张华民 ;  张凤祥 ;  曲超 ;  刘波 ;  王晓丽
申请受理号: CN
专利授权号: CN201110186832.3
代理机构: 中国科学院大连化学物理研究所 ;  大连融科储能技术发展有限公司
专利权人: 中国科学院大连化学物理研究所 ;  大连融科储能技术发展有限公司
专利证书号: CN201110186832.3
是否PCT专利: 实审
授予国别: 待填写
部门归属: 带填写
项目归属: 大连化物所
专利名称: 一种复合阴离子交换膜及其制备和应用;  一种复合阴离子交换膜及其制备和应用
公开日期: 2011-07-05
状态: 发明
资助者: 本发明涉及一种复合阴离子膜及其制备和应用。该膜由卤甲基化聚合物、离子交换基前体、双效交联剂和增强材料制备而成。在制备过程中,双效交联剂将增强物分子链与导离子聚合物分子链“锁”在一起,形成强制性互穿网络,避免宏观相分离。该方法简单易行、成本低,实施过程对膜的强度本身没有伤害,所得阴离子膜具有稳定的界面和机械稳定性,膜的电导率和耐溶胀性可以同时得到保障。
英文摘要: 带填写
语种: 2013-1-9
内容类型: 专利
URI标识: http://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/118919
Appears in Collections:中国科学院大连化学物理研究所_专利

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张华民,张凤祥,曲超,等. 一种复合阴离子交换膜及其制备和应用, 一种复合阴离子交换膜及其制备和应用. CN201110186832.3.
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