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学科主题: 马驰
专利名称: 硅烷胍基复合阴离子膜以及制备和应用;  硅烷胍基复合阴离子膜以及制备和应用
发明人: 张华民 ;  曲超 ;  张凤祥 ;  刘波 ;  史丁秦 ;  王晓丽
申请受理号: CN
专利授权号: CN201110186931.1
代理机构: 中国科学院大连化学物理研究所 ;  大连融科储能技术发展有限公司
专利权人: 中国科学院大连化学物理研究所 ;  大连融科储能技术发展有限公司
专利证书号: CN201110186931.1
是否PCT专利: 实审
授予国别: 待填写
部门归属: 带填写
项目归属: 大连化物所
专利名称: 硅烷胍基复合阴离子膜以及制备和应用;  硅烷胍基复合阴离子膜以及制备和应用
公开日期: 2011-07-05
状态: 发明
资助者: 本发明提供一种硅烷胍基复合阴离子膜及其制备方法和应用,该类膜由具有重复单元的无序体型硅烷胍类聚合物制备而成,由于含有大量的易传导阴离子的胍基团,同时硅烷的保水能力也提高了膜的离子传导能力,使膜具有电导率高的特点;硅烷胍与其他非传导离子介质复合后,具有优良的膜尺寸稳定性和机械强度,提高了膜的化学和机械稳定性。
英文摘要: 带填写
语种: 2013-1-9
内容类型: 专利
URI标识: http://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/118921
Appears in Collections:中国科学院大连化学物理研究所_专利

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张华民,曲超,张凤祥,等. 硅烷胍基复合阴离子膜以及制备和应用, 硅烷胍基复合阴离子膜以及制备和应用. CN201110186931.1.
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