中国科学院大连化学物理研究所机构知识库
Advanced  
DICP OpenIR  > 中国科学院大连化学物理研究所  > 期刊论文
学科主题: 物理化学
题名: Influence of pulsed bias on TiO2 thin films prepared on silicon by arc ion plating:Experimental and simulation study
作者: Min Zhang ;  Lei Liub ;  Xiaoxu Yanga ;  Feifei Xua ;  Chengsen Liua ;  Gong FQ(公发全)
通讯作者: Min Zhang
刊名: Surface & Coatings Technology
发表日期: 2013
卷: 226, 页:186
合作性质: 
部门归属: 7
项目归属: 703
产权排名: 待补充
资助者: 3,6
英文摘要: Influence of pulsed bias on TiO2 thin films prepared on silicon by arc ion plating:Experimental and simulation study
语种: 
原文出处: 查看原文
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/119337
Appears in Collections:中国科学院大连化学物理研究所_期刊论文

Files in This Item: Download All
File Name/ File Size Content Type Version Access License
2013Ionyps1jod.PDF(1286KB)----开放获取View Download

Recommended Citation:
Min Zhang,Lei Liub,Xiaoxu Yanga,et al. Influence of pulsed bias on TiO2 thin films prepared on silicon by arc ion plating:Experimental and simulation study[J]. Surface & Coatings Technology,2013,226:186.
Service
 Recommend this item
 Sava as my favorate item
 Show this item's statistics
 Export Endnote File
Google Scholar
 Similar articles in Google Scholar
 [Min Zhang]'s Articles
 [Lei Liub]'s Articles
 [Xiaoxu Yanga]'s Articles
CSDL cross search
 Similar articles in CSDL Cross Search
 [Min Zhang]‘s Articles
 [Lei Liub]‘s Articles
 [Xiaoxu Yanga]‘s Articles
Related Copyright Policies
Null
Social Bookmarking
  Add to CiteULike  Add to Connotea  Add to Del.icio.us  Add to Digg  Add to Reddit 
文件名: 2013Ionyps1jod.PDF
格式: Adobe PDF
此文件暂不支持浏览
所有评论 (0)
暂无评论
 
评注功能仅针对注册用户开放,请您登录
您对该条目有什么异议,请填写以下表单,管理员会尽快联系您。
内 容:
Email:  *
单位:
验证码:   刷新
您在IR的使用过程中有什么好的想法或者建议可以反馈给我们。
标 题:
 *
内 容:
Email:  *
验证码:   刷新

Items in IR are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

 

 

Valid XHTML 1.0!
Powered by CSpace