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学科主题物理化学
Influence of pulsed bias on TiO2 thin films prepared on silicon by arc ion plating:Experimental and simulation study
Min Zhang; Lei Liub; Xiaoxu Yanga; Feifei Xua; Chengsen Liua; Gong FQ(公发全)
刊名Surface & Coatings Technology
2013
226页:186
合作性质
部门归属7
项目归属703
产权排名待补充
资助者3,6 ; 3,6 ; 3,6 ; 3,6
英文摘要Influence of pulsed bias on TiO2 thin films prepared on silicon by arc ion plating:Experimental and simulation study
语种
资助者3,6 ; 3,6 ; 3,6 ; 3,6
原文出处查看原文
文献类型期刊论文
条目标识符http://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/119337
专题中国科学院大连化学物理研究所
通讯作者Min Zhang
推荐引用方式
GB/T 7714
Min Zhang,Lei Liub,Xiaoxu Yanga,et al. Influence of pulsed bias on TiO2 thin films prepared on silicon by arc ion plating:Experimental and simulation study[J]. Surface & Coatings Technology,2013,226:186.
APA Min Zhang,Lei Liub,Xiaoxu Yanga,Feifei Xua,Chengsen Liua,&公发全.(2013).Influence of pulsed bias on TiO2 thin films prepared on silicon by arc ion plating:Experimental and simulation study.Surface & Coatings Technology,226,186.
MLA Min Zhang,et al."Influence of pulsed bias on TiO2 thin films prepared on silicon by arc ion plating:Experimental and simulation study".Surface & Coatings Technology 226(2013):186.
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2013Ionyps1jod.PDF(1286KB) 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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