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专利名称: 一种制备高性能钯合金复合膜的方法;  一种制备高性能钯合金复合膜的方法
发明人: 杨维慎 ;  鲁辉 ;  朱琳琳 ;  王卫平
申请受理号: CN201310071803.1
专利授权号: CN201310071803.1
申请日期: 2013-03-06
授权日期: 2014-09-28
专利权人: 中国科学院大连化学物理研究所
专利类别: 发明
是否PCT专利: 
授予国别: CN
部门归属: 大连化物所
专利名称: 一种制备高性能钯合金复合膜的方法;  一种制备高性能钯合金复合膜的方法
公开日期: 2014-09-10
状态: 公开
摘要: 一种制备高性能钯合金复合膜的方法,先用低温釉对底膜非目标镀膜处密封,真空溶胶修饰法修饰管状多孔底膜目标镀膜处表面,再经优化的敏化活化法在多孔底膜表面引入钯晶种,最后用分步化学镀法在底膜上依次镀钯膜、镍膜等,再经高温合金化,可制备出氢气渗透率,渗透选择性及稳定性能优良的高性能钯合金复合膜。本发明通过低温釉对多孔底膜密封,不仅得到密封性优良的底膜,而且增强了底膜的机械强度。通过分步化学镀法依次化学镀钯、镍等金属,再经高温合金化,可得到元素分布均匀的透氢性能优良的钯合金复合膜。
语种: 中文
内容类型: 专利
URI标识: http://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/120239
Appears in Collections:中国科学院大连化学物理研究所_专利

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杨维慎,鲁辉,朱琳琳,等. 一种制备高性能钯合金复合膜的方法, 一种制备高性能钯合金复合膜的方法. CN201310071803.1. 2014.
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