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一种光学基片镀膜前的清洗方法; 一种光学基片镀膜前的清洗方法; 一种光学基片镀膜前的清洗方法; 一种光学基片镀膜前的清洗方法
龚选香; 李刚; 孙龙
申请受理号CN201210387481.7
专利授权号CN201210387481.7
申请日期2012-10-12
2014
专利权人中国科学院大连化学物理研究所
专利类别发明
是否PCT专利
授予国别CN
部门归属大连化物所
一种光学基片镀膜前的清洗方法; 一种光学基片镀膜前的清洗方法; 一种光学基片镀膜前的清洗方法; 一种光学基片镀膜前的清洗方法
公开日期2014-04-16
状态实审
英文摘要本发明涉及一种光学基片镀膜前的清洗方法。该操作方法采用正庚烷代替乙醚和乙醇按一定比例配成混合清洗液,滴在光学清洗无尘布上对光学石英玻璃进行擦拭清洗。在高亮度光学检测灯的照射下,观察基片的去污情况,从而达到基片清洁的目的。用此方法清洗镀膜前的光学基片可以提高光学薄膜的附着力和增强薄膜的抗激光损伤阈值,提高光学薄膜的使用寿命。
语种中文
文献类型专利
条目标识符http://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/120593
专题中国科学院大连化学物理研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
龚选香,李刚,孙龙. 一种光学基片镀膜前的清洗方法, 一种光学基片镀膜前的清洗方法, 一种光学基片镀膜前的清洗方法, 一种光学基片镀膜前的清洗方法. CN201210387481.7[P]. 2014-01-01.
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