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专利名称: 一种双阀激光溅射反应源;  一种双阀激光溅射反应源
发明人: 唐紫超 ;  谢华 ;  刘志凌 ;  秦正波 ;  张世宇
申请受理号: CN201310468675.4
专利授权号: CN201310468675.4
申请日期: 2013-10-09
授权日期: 2014
专利权人: 中国科学院大连化学物理研究所
专利类别: 发明
是否PCT专利: 
授予国别: CN
部门归属: 大连化物所
专利名称: 一种双阀激光溅射反应源;  一种双阀激光溅射反应源
公开日期: 2014-02-05
状态: 实审
摘要: 一种双阀激光溅射反应源,该装置结构由溅射激光,脉冲阀a,脉冲阀b,样品靶,反应通道以及喷嘴组成。该发明具有很强的通用性,不仅可以产生难熔的金属团簇,而且可以产生半导体甚至绝缘体的团簇。系统结构简单,便于维护和操作。
语种: 中文
内容类型: 专利
URI标识: http://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/120697
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唐紫超,谢华,刘志凌,等. 一种双阀激光溅射反应源, 一种双阀激光溅射反应源. CN201310468675.4. 2014.
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