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氮氧化硅色谱固定相材料及其制备和应用; 氮氧化硅色谱固定相材料及其制备和应用; 氮氧化硅色谱固定相材料及其制备和应用; 氮氧化硅色谱固定相材料及其制备和应用
梁鑫淼;  万慧慧;  薛兴亚
申请受理号CN201010521325.6
专利授权号CN201010521325.6
申请日期2010-10-27
2014
代理机构马驰
专利权人中国科学院大连化学物理研究所
专利类别发明
是否PCT专利
授予国别CN
部门归属大连化物所
氮氧化硅色谱固定相材料及其制备和应用; 氮氧化硅色谱固定相材料及其制备和应用; 氮氧化硅色谱固定相材料及其制备和应用; 氮氧化硅色谱固定相材料及其制备和应用
公开日期2014
状态授权
英文摘要本发明提供一种氮氧化硅色谱固定相材料及其制备方法,以氧化硅材料为原料,通过在高温下氨气与氧化硅材料的硅羟基之间的氮化反应制得表面含有硅氨基和亚氨基团的氮氧化硅色谱固定相材料。通过控制氨气的流速,氮化温度和氮化时间,可以控制制备的氮氧化硅材料的氮含量。本发明制备的氮氧化硅材料不但能很好的保持氧化硅原料的形貌,而且可以保持氧化硅材料的孔道结构和比表面积。本发明制备的氮氧化硅材料化学稳定性好,在pH:1-13的流动相中能够稳定存在而不发生流失,作为色谱固定相材料和固相萃取材料具有广泛的应用前景。本发明操作简单,生产成本低,适于工业化生产。
语种中文
文献类型专利
条目标识符http://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/120766
专题中国科学院大连化学物理研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
梁鑫淼, 万慧慧, 薛兴亚. 氮氧化硅色谱固定相材料及其制备和应用, 氮氧化硅色谱固定相材料及其制备和应用, 氮氧化硅色谱固定相材料及其制备和应用, 氮氧化硅色谱固定相材料及其制备和应用. CN201010521325.6[P]. 2014-01-01.
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