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学科主题物理化学
低温等离子体辅助脉冲直流磁控溅射制备TiN薄膜
吕起鹏; 李刚; 公发全; 王锋; 卢俊; 孙龙; 金玉奇
刊名真空科学与技术学报
2014-12-24
34期:11页:1192
文献类型期刊论文
条目标识符http://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/143997
专题中国科学院大连化学物理研究所
通讯作者李刚
作者单位大连化学物理研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
吕起鹏,李刚,公发全,等. 低温等离子体辅助脉冲直流磁控溅射制备TiN薄膜[J]. 真空科学与技术学报,2014,34(11):1192.
APA 吕起鹏.,李刚.,公发全.,王锋.,卢俊.,...&金玉奇.(2014).低温等离子体辅助脉冲直流磁控溅射制备TiN薄膜.真空科学与技术学报,34(11),1192.
MLA 吕起鹏,et al."低温等离子体辅助脉冲直流磁控溅射制备TiN薄膜".真空科学与技术学报 34.11(2014):1192.
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