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学科主题: 物理化学
题名: 欠氧化气氛下等离子体辅助脉冲直流磁控溅射高纯度Al2O3薄膜
作者: 李刚1;  吕起鹏1;  公发权1;  王锋1;  孙龙1;  金玉奇1
通讯作者: 李刚
刊名: 真空科学与技术学报
发表日期: 2014-12-23
卷: 34, 期:3, 页:261
内容类型: 期刊论文
URI标识: http://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/143998
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20144IMSa9yY1u.PDF(483KB)期刊论文作者接受稿开放获取View Download

作者单位: 1.大连化学物理研究所

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李刚,吕起鹏,公发权,等. 欠氧化气氛下等离子体辅助脉冲直流磁控溅射高纯度Al2O3薄膜[J]. 真空科学与技术学报,2014,34(3):261.
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