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学科主题物理化学
欠氧化气氛下等离子体辅助脉冲直流磁控溅射高纯度Al2O3薄膜
李刚; 吕起鹏; 公发权; 王锋; 孙龙; 金玉奇
刊名真空科学与技术学报
2014-12-23
34期:3页:261
文献类型期刊论文
条目标识符http://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/143998
专题中国科学院大连化学物理研究所
通讯作者李刚
作者单位大连化学物理研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
李刚,吕起鹏,公发权,等. 欠氧化气氛下等离子体辅助脉冲直流磁控溅射高纯度Al2O3薄膜[J]. 真空科学与技术学报,2014,34(3):261.
APA 李刚,吕起鹏,公发权,王锋,孙龙,&金玉奇.(2014).欠氧化气氛下等离子体辅助脉冲直流磁控溅射高纯度Al2O3薄膜.真空科学与技术学报,34(3),261.
MLA 李刚,et al."欠氧化气氛下等离子体辅助脉冲直流磁控溅射高纯度Al2O3薄膜".真空科学与技术学报 34.3(2014):261.
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