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Photodissociation of nitrobenzene at 266 nm : Experimental and theoretical approach
Li YM(李亚民); Sun JL(孙巨龙); Yin HM(尹鸿鸣); Han KL(韩克利); He GZ(何国钟); Li YM(李亚民); Sun JL(孙巨龙); Yin HM(尹鸿鸣); Han KL(韩克利); He GZ(何国钟)
刊名Journal of Chemical Physics
2003
118期:14页:6244-6249
部门归属1101
项目归属1101
产权排名1;1
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文献类型期刊论文
条目标识符http://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/83103
专题中国科学院大连化学物理研究所
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GB/T 7714
Li YM,Sun JL,Yin HM,et al. Photodissociation of nitrobenzene at 266 nm : Experimental and theoretical approach[J]. Journal of Chemical Physics,2003,118(14):6244-6249.
APA 李亚民.,孙巨龙.,尹鸿鸣.,韩克利.,何国钟.,...&何国钟.(2003).Photodissociation of nitrobenzene at 266 nm : Experimental and theoretical approach.Journal of Chemical Physics,118(14),6244-6249.
MLA 李亚民,et al."Photodissociation of nitrobenzene at 266 nm : Experimental and theoretical approach".Journal of Chemical Physics 118.14(2003):6244-6249.
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