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QUANTITATIVE STUDY ON THE PHOTOEXCITATION PROCESS OF SiF4 AT 49-120nm
Masako Suto; Xiuyan Wang; L.C.Lee; Masako Suto; Xiuyan Wang; L.C.Lee
刊名J.Chem.phys
1987
3页:-
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文献类型期刊论文
条目标识符http://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/96417
专题中国科学院大连化学物理研究所
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GB/T 7714
Masako Suto,Xiuyan Wang,L.C.Lee,et al. QUANTITATIVE STUDY ON THE PHOTOEXCITATION PROCESS OF SiF4 AT 49-120nm[J]. J.Chem.phys,1987,3:-.
APA Masako Suto,Xiuyan Wang,L.C.Lee,Masako Suto,Xiuyan Wang,&L.C.Lee.(1987).QUANTITATIVE STUDY ON THE PHOTOEXCITATION PROCESS OF SiF4 AT 49-120nm.J.Chem.phys,3,-.
MLA Masako Suto,et al."QUANTITATIVE STUDY ON THE PHOTOEXCITATION PROCESS OF SiF4 AT 49-120nm".J.Chem.phys 3(1987):-.
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