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Study on the Properties of 1319 nm Ultra-High Reflector Deposited by Electron Beam Evaporation Assisted by an Energetic RF Ion Source 期刊论文
COATINGS, 2018, 卷号: 8, 期号: 2
Authors:  Deng, Songwen;  Li, Gang;  Wang, Feng;  Lv, Qipeng;  Sun, Long;  Jin, Yuqi
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Electron Beam Evaporation  Ultra-high Reflector  Ion Source  
一种磁控溅射低温制备TiN薄膜的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201310681582.X, 申请日期: 2015-11-01, 公开日期: 2015-06-17
Inventors:  李刚;  吕起鹏;  王锋;  公发全;  邓淞文;  孙龙;  金玉奇
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低温等离子体辅助脉冲直流磁控溅射制备TiN薄膜 期刊论文
真空科学与技术学报, 2014, 卷号: 34, 期号: 11, 页码: 1192
Authors:  吕起鹏;  李刚;  公发全;  王锋;  卢俊;  孙龙;  金玉奇
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欠氧化气氛下等离子体辅助脉冲直流磁控溅射高纯度Al2O3薄膜 期刊论文
真空科学与技术学报, 2014, 卷号: 34, 期号: 3, 页码: 261
Authors:  李刚;  吕起鹏;  公发权;  王锋;  孙龙;  金玉奇
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一种不规则缺角型镜片镀膜装夹用的填补部件 专利
专利类型: 实用新型, 专利号: CN201320831240.7, 申请日期: 2014-07-02, 公开日期: 2014-07-02
Inventors:  龚选香;   李刚;   孙龙
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一种金属及半导体薄膜材料光学常数的标定方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201210279625.7, 申请日期: 2014-01-01, 公开日期: 2014-02-12
Inventors:  邓淞文;  李刚;  孙龙
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一种等离子体辅助磁控溅射沉积方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201210358823.2, 申请日期: 2014-01-01, 公开日期: 2014-03-26
Inventors:  李刚;   孙龙;   金玉奇
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一种光学基片镀膜前的清洗方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201210387481.7, 申请日期: 2014-01-01, 公开日期: 2014-04-16
Inventors:  龚选香;  李刚;  孙龙
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Residual stress prediction and control of Ta2O5SiO 2 multilayer based on layer structure designing 期刊论文
Chinese Optics Letters(中国期刊), 2013, 卷号: 11, 期号: 10, 页码: 10701
Authors:  Deng SW(邓淞文);  Wang F(王锋);  Liu SF(刘顺福);  Li G(李刚);  Sun L(孙龙);  Jin YQ(金玉奇)
Adobe PDF(390Kb)  |  Favorite  |  View/Download:134/43  |  Submit date:2014/09/11
Residual stress prediction and control of Ta2O5/SiO2 multilayer based on layer structure designing 会议论文
Frontiers of Optical Coatings, 杭州, 2012-10-15
Authors:  Deng SW(邓淞文);  Wang F(王锋);  Liu SF(刘顺福);  Li G(李刚);  Sun L(孙龙);  Jin YQ(金玉奇)
Favorite  |  View/Download:121/0  |  Submit date:2013/10/10